金属银粉的生产制取工艺过程中，需要在沉淀罐及过滤机内用去离子水反复清洗，才能得到高纯银粉。如果清洗不彻底，会遗留杂质和引起银粉在干燥时结团。清洗用的去离子水一般要求电阻率15MΩ·cm以上。

某公司需要的清洗工艺去离子水用水量10m3/h，电阻率≥15MΩ·cm，水源为市政自来水，采用活性碳过滤+软化处理+反渗透处理系统+混床离子交换系统制取去离子水。

混床离子交换系统配置三台直径300mm，高度2000mm的混床专用玻璃钢罐，罐内按1:2比例填装强酸性阳树脂和强碱性阴树脂，选用三台润新15704(F87)混床用控制阀，形成三套混床离子交换系统并联运行供水。混床设计运行平均流速50m/h（一般40~60m/h），反洗分层流速10m/h，再生流速5m/h，通过电阻率仪在线监测出水水质，当出水电阻率超出设定值时，润新混床用控制阀自动开启再生。

设备安装图

润新混床用控制阀采用耐酸碱的陶瓷平面密封结构，阴、阳树脂再生时采用同步再生法，再生效果较好。控制阀配置有酸、碱射流器通过射流虹吸分别吸入酸液和碱液同步再生阳树脂和阴树脂。

润新混床用控制阀

该系统采用的水处理工艺流程为：原水→活性碳过滤→软化处理系统→反渗透处理系统→中间水箱→增压泵→混床离子交换系统→去离子水箱。

原水经系统去离子处理后，出水电阻率＞15MΩ·cm，最高可达17.6MΩ·cm，每天运行8小时，约半个月再生一次，去离子效果好，工人操作强度低，运行成本低。